Canon zaatakuje ASML i stworzy maszyny do produkcji półprzewodników w litografii NIL

Canon zaatakuje ASML i stworzy maszyny do produkcji półprzewodników w litografii NIL

ASML Holding NV nie jest jedyną firmą produkującą maszyny do litografii przemysłowej. Drugim co do wielkości producentem jest firma Canon, która rozpocznie budowę nowej fabryki NIL (Nanoimprint Lithography) w Japonii.

Choć Canona kojarzymy głównie z produkcją aparatów i drukarek, w rzeczywistości w portfolio tego producenta jest znacznie więcej produktów. Dla wielu zaskakującym odkryciem może być fakt, że jest drugim co do wielkości producentem maszyn litograficznych na świecie. Rynek jest zdominowany przez holenderską firmę ASML Holding NV z około 60% udziałem w rynku, ale drugi Canon zajmuje prawie jedną trzecią rynku, więc nie jest to mały producent. Problem Canona polega jednak na tym, że od bardzo dawna nie wprowadza fundamentalnych innowacji w swojej ofercie, a jego technologia litografii ma zastosowanie tylko do produkcji 130 nm  (od dawna wpływa to także na wydajność sensorów w aparatach, gdzie konkurencja produkuje sensory w bardziej zaawansowanym procesie). Dla przypomnienia, maszyny litograficzne oferuje również konkurencyjny Nikon.

Canon (tak, ten od aparatów) ocknął się ze stagnacji i przypuszcza atak na rynku maszyn litograficznych. Firma buduje fabrykę maszyn do produkcji w litografii NIL (Nanoimprint Lithography), które pozwolą na produkcję nawet w procesie 2 nm. Dotąd Canon oferował maszyny do produkcji w 130 nm, przez co ich sensory były często w tyle za nowszą konkurencją.

Ponieważ na rynku wciąż brakuje chipów i istnieje potrzeba znacznego zwiększenia produkcji przy użyciu bardziej zaawansowanych procesów, a produkcja ASML jest niewystarczająca, Canon widzi w tym znaczny potencjał wzrostu. Miasto Ucunomiya w prefekturze Tochigi stanie się siedzibą nowej fabryki Canona, który wyłoży na tę inwestycję 50 miliardów jenów (1,7 miliarda PLN). Budowa ruszy w przyszłym roku, a produkcja powinna wystartować w 2025 roku. Półprzewodniki nie będą jednak produkowane przy użyciu litografii EUV, ale przy użyciu NIL (Nanoimprint Lithography). 

Litografia NIL jest rozwijana we współpracy z Dai Nippon Printing i Kioxia, ale jeszcze nie trafiła do głównego nurtu ze względu na problemy technologiczne. Nowa wersja powinna jednak przynieść 40% tańszą produkcję i do 90% niższy pobór mocy, co może być wystarczające dla technologii produkcji 2nm. Według serwisu Nikkei Asia w 2022 r. rynek sprzętu litograficznego wzrośnie o 29% w porównaniu do ubiegłego roku.

Zobacz także:

 

 
Obserwuj nas w Google News

Pokaż / Dodaj komentarze do: Canon zaatakuje ASML i stworzy maszyny do produkcji półprzewodników w litografii NIL

 0