Holenderska firma ASML uhonorowała TRUMPF prestiżową nagrodą dostawcy w kategorii „Technologia”. Wyróżnienie to przyznano za rozwój nowego lasera wysokoenergetycznego EUV, który stanie się sercem kolejnej generacji systemów litograficznych EUV do produkcji najbardziej zaawansowanych mikrochipów na świecie. Ceremonia wręczenia nagrody odbyła się 23 października podczas Dnia Dostawców ASML, a rozpoczęcie seryjnej produkcji laserów zaplanowano na 2026 rok.

Współpraca między TRUMPF a ASML trwa od wielu lat i stanowi fundament postępu w technologiach półprzewodnikowych. Najnowszy laser EUV, stworzony przez niemieckiego producenta, jest urządzeniem o imponującej skali. Składa się z ponad 450 tysięcy elementów i waży przeszło 20 ton. To technologiczny kolos zaprojektowany od podstaw z myślą o wyższej niezawodności i stabilności działania w ekstremalnych warunkach fabryk chipów.

Jak podkreśliła Sheila Leenders, starsza wiceprezes ds. zaopatrzenia strategicznego w ASML, ich zastosowanie ma poprawić wydajność i dostępność urządzeń EUV przy jednoczesnym ograniczeniu zużycia energii. Takie połączenie wydajności i oszczędności energetycznej jest kluczowe w procesie miniaturyzacji układów scalonych i optymalizacji produkcji półprzewodników.

Wspólna wizja dla przyszłości chipów

Volker Jacobsen, dyrektor generalny działu EUV w TRUMPF, uznał nagrodę za potwierdzenie wartości partnerstwa obu firm. W jego ocenie sukces projektu jest efektem determinacji zespołu inżynierów i konsekwentnego rozwijania technologii laserowych, które od lat stanowią fundament rozwiązań wykorzystywanych przez ASML. Współpraca między firmami ma strategiczne znaczenie dla całej branży półprzewodników, stanowiąc kluczowy element globalnego łańcucha dostaw nowoczesnych procesorów i układów pamięci.

Nowy laser EUV nie tylko podnosi parametry techniczne systemów litograficznych, ale wpisuje się również w rosnące oczekiwania dotyczące zrównoważonego rozwoju. Dzięki niższemu zużyciu energii i większej stabilności operacyjnej, produkcja chipów w oparciu o tę technologię ma być bardziej efektywna i przyjazna środowisku.

Technologiczna synergia Europy

Partnerstwo ASML i TRUMPF to przykład ścisłej współpracy europejskich firm w obszarze strategicznych technologii. ASML odpowiada za budowę najbardziej zaawansowanych systemów litograficznych na świecie, a TRUMPF dostarcza kluczowy komponent – laser EUV do nanoszenia struktur na wafle krzemowe. Wspólnie tworzą podstawę dla dalszego rozwoju globalnego przemysłu półprzewodników, od którego zależą zarówno nowoczesne urządzenia mobilne, jak i przyszłe systemy sztucznej inteligencji.

Pierwsze dostawy nowych laserów wysokoenergetycznych zaplanowano na przyszły rok. Wraz z ich wdrożeniem rozpocznie się nowy etap w historii litografii EUV – technologii, bez której postęp w miniaturyzacji procesorów byłby niemożliwy.

O firmie

TRUMPF Huettinger jest światowym producentem zasilaczy do procesów powlekania i trawienia plazmowego, nagrzewania indukcyjnego i wzbudzania laserów. Produkty firmy dostarczają energii procesowej dla wielu gałęzi przemysłu high-tech. Systemy zasilające produkowane przez TRUMPF Huettinger wykorzystywane są do wytwarzania   struktur   półprzewodnikowych   najbardziej   zaawansowanych   technologicznie   pamięci   3D   i procesorów, do wytwarzania ogniw fotowoltaicznych, do pokrywania powierzchni szklanych i plastikowych (telewizory i monitory LED, OLED, LCD, wyświetlacze telefonów, szkło optyczne, przemysłowe i budowlane), utwardzania powierzchni metalowych (wiertła, koła zębate, łopatki turbin silników lotniczych, protezy, implanty, powłoki wykończeniowe, zabezpieczające i dekoracyjne), oraz wielu innych. TRUMPF Huettinger posiada centra badawczo – rozwojowe i produkcyjne w kilku krajach, z których największe jest w Polsce i Niemczech zaś oddziały sprzedaży i serwisu ulokowane są w Europie, Ameryce i Azji. W Polsce zatrudnionych jest ok. 1,5 tys. pracowników