Koniec monopolu ASML? Chiny zrobiły kolejny krok w stronę litografii EUV

Chiński startup Langdao Silex zaprezentował prototyp źródła światła EUV, które ma w przyszłości pomóc krajowemu przemysłowi półprzewodników uniezależnić się od zagranicznych dostawców (głównie od maszyn AML). Firma deklaruje, że aż 90% komponentów rozwiązania pochodzi z Chin, ale do rozpoczęcia komercyjnej produkcji droga pozostaje jednak daleka.

Chińskie EUV wciąż ma problem z wydajnością

Jak informuje TrendForce, urządzenie FlintNano LPP-OXXO wykorzystuje technologię plazmy generowanej laserowo. Według opublikowanych parametrów źródło zapewnia moc promieniowania EUV przekraczającą 15 W i może pracować nieprzerwanie przez ponad 100 godzin. Zastosowany laser ma natomiast moc 1000 W, co nie oznacza, że tyle energii trafia do wiązki EUV. To istotne rozróżnienie, ponieważ komercyjne źródła EUV wymagają mocy rzędu kilkuset watów, a jednocześnie muszą zachowywać wysoką stabilność podczas długotrwałej pracy. Chiński prototyp pozostaje więc daleko od parametrów potrzebnych w nowoczesnych fabrykach układów scalonych.

Przedstawiciele branży szacują, że uruchomienie produkcji na dużą skalę może zająć jeszcze od trzech do pięciu lat. Langdao Silex ma już rozwijać słabsze źródła światła na etapie przygotowania do wdrożenia produktu, podczas gdy mocniejsza seria przeszła weryfikację podstawowej koncepcji.

Branżowi eksperci szacują, że uruchomienie produkcji na dużą skalę może zająć jeszcze od trzech do pięciu lat.

ASML jeszcze nie musi zwijać biznesu

Należy przy tym pamiętać, że źródło światła jest tylko jednym z elementów maszyny litograficznej EUV. Stworzenie kompletnego urządzenia wymaga również niezwykle precyzyjnej optyki, zaawansowanych mechanizmów pozycjonowania wafli krzemowych oraz integracji wszystkich podzespołów. Tymczasem deklarowane 90% krajowych komponentów dotyczy samego źródła światła, a nie kompletnego skanera litograficznego. Nie można zatem uznać, że Chiny są już bliskie zbudowania w pełni krajowej alternatywy dla maszyn holenderskiego ASML.

Nie da się jednak ukryć, że prototyp Langdao Silex stanowi kolejny krok w kierunku technologicznej samodzielności Chin, a biorąc pod uwagę tempo rozwoju ASML rzeczywiście może się niepokoić.