Chiny przyspieszają rozwój zaawansowanych fotorezystów. To może być przełom

Fotorezysty o wysokiej czystości stanowią kluczowy element w produkcji półprzewodników na zaawansowanych procesach technologicznych. W obliczu globalnych napięć handlowych oraz dążenia do samowystarczalności, Chiny intensyfikują wysiłki na rzecz rozwoju własnych technologii w tym obszarze.

Fotorezysty – klucz do produkcji zaawansowanych chipów

Fotorezysty półprzewodnikowe dzielą się na różne kategorie w zależności od długości fal światła wykorzystywanego w procesach litograficznych. Do najbardziej zaawansowanych należą fotorezysty KrF (248 nm), ArF (193 nm) oraz EUV (13,5 nm). Dominacja globalnego rynku w tej dziedzinie należy obecnie do firm z Japonii i Stanów Zjednoczonych, takich jak JSR, Tokyo Ohka Kogyo, Shin-Etsu Chemical, Sumitomo Chemical, Fujifilm czy DuPont. Firmy te posiadają zaawansowane technologie i kontrolują większość światowego rynku materiałów fotorezystywnych. Tymczasem chińskie przedsiębiorstwa, w tym Shanghai Sinyang, Rachem oraz Bcpharma, poczyniły postępy głównie w produkcji mniej zaawansowanych fotorezystów g-line (436 nm) i i-line (365 nm). Jednak ich obecność na rynku materiałów high-end pozostaje marginalna z uwagi na późniejszy start oraz skomplikowane wyzwania technologiczne. Wskaźniki penetracji chińskiego rynku krajowego to około 20% dla fotorezystów g-line i i-line, mniej niż 5% dla KrF i zaledwie 1% dla zaawansowanych ArF.

Jak donosi TrendForce, rok 2024 przyniósł znaczące postępy w chińskim sektorze fotorezystów, napędzane wsparciem rządowym oraz rosnącym zapotrzebowaniem ze strony lokalnych producentów chipów.

Chińskie firmy robią krok naprzód

Mimo trudności, niektóre chińskie firmy podejmują śmiałe kroki w kierunku produkcji zaawansowanych fotorezystów. Hubei Dinglong, jeden z liderów w tej dziedzinie, ogłosił niedawno, że jego fotorezysty KrF i ArF przeszły pozytywne oceny klientów i zdobyły zamówienia od dwóch krajowych producentów półprzewodników o łącznej wartości ponad 1 miliona jenów (około 137 tysięcy dolarów). Firma osiągnęła ten sukces dzięki udoskonaleniu struktury monomerów i żywic oraz optymalizacji procesów oczyszczania i mieszania. Dzięki tym krokom Hubei Dinglong może realizować w pełni zlokalizowany proces produkcji, obejmujący zarówno materiały bazowe, jak i gotowe produkty.

Z kolei Rongda Company uzyskała zgodę na inwestycję o wartości 244 milionów jenów (około 33,5 miliona dolarów), która ma wesprzeć rozwój zaawansowanych projektów związanych z fotorezystami, maskami lutowniczymi dla układów scalonych (IC) oraz suchymi filmami. Środki te mają pokryć zarówno prace badawczo-rozwojowe, jak i potrzeby operacyjne firmy. Suchy film produkcji Rongda ma szczególne znaczenie dla dynamicznie rozwijającego się sektora PCB i półprzewodników, który w Chinach odnotowuje obecnie imponujący wzrost.

Rządowe wsparcie i rosnący popyt

Szybko rozwijający się sektor mikroelektroniki w Chinach stymuluje popyt na krajowe rozwiązania fotorezystywne. Nowe fabryki półprzewodników, wchodzące do użytku w różnych częściach kraju, zwiększają zapotrzebowanie na wysokiej jakości, lokalnie produkowane materiały. W odpowiedzi na te potrzeby chiński rząd wprowadza szereg polityk mających na celu wsparcie sektora półprzewodników i surowców. Celem jest ograniczenie zależności od zagranicznych dostawców oraz pobudzenie krajowej innowacyjności.

Jeśli obecny trend się utrzyma, Chiny mogą stać się ważnym graczem na rynku zaawansowanych fotorezystów, dotychczas zdominowanym przez USA i Japonię.