Chiny ruszają z produkcją własnych maszyn litograficznych. Zachód będzie mieć problem


Chiny ruszają z produkcją własnych maszyn litograficznych. Zachód będzie mieć problem

Chiny wykonały kolejny krok w wyścigu o technologiczne uniezależnienie się od Zachodu. Według najnowszych doniesień kraj rozpoczął seryjną produkcję własnych maszyn litograficznych DUV wykorzystujących technologię immersyjną. Pierwsze urządzenia mają jeszcze w tym roku trafić do największych producentów półprzewodników w Państwie Środka, w tym SMIC, Hua Hong Semiconductor oraz ChangXin Memory Technologies (CXMT).

To może okazać się jednym z najważniejszych momentów dla chińskiego przemysłu półprzewodników od czasu nałożenia amerykańskich ograniczeń eksportowych. Przez ostatnie lata Pekin inwestował miliardy dolarów w budowę własnego zaplecza technologicznego. Teraz pojawiają się pierwsze efekty tych działań.

Pierwsze maszyny DUV opuszczają fabryki

Według informacji opublikowanych przez The Information wspierana przez chińskie państwo firma z Szanghaju rozpoczęła produkcję urządzeń litograficznych DUV wykorzystujących metodę immersyjną. Jeszcze w 2026 roku ma powstać około pięciu egzemplarzy, natomiast w 2027 roku produkcja ma wzrosnąć do około dwudziestu systemów.

To nadal niewielka liczba w porównaniu z możliwościami światowych liderów, jednak dla Chin liczy się przede wszystkim przełamanie technologicznej bariery. Do tej pory krajowe fabryki były niemal całkowicie uzależnione od zagranicznych dostawców sprzętu.

Pierwszymi odbiorcami nowych urządzeń mają zostać SMIC, Hua Hong Semiconductor oraz producent pamięci CXMT. Wszystkie trzy przedsiębiorstwa od dawna znajdują się na celowniku amerykańskich ograniczeń eksportowych.

Wspierana przez państwo firma z Szanghaju rozpoczęła masową produkcję urządzeń do litografii immersyjnej w głębokim ultrafiolecie i ma dostarczyć pierwsze egzemplarze w tym roku firmom SMIC, Hua Hong Semiconductor oraz producentowi pamięci ChangXin Memory Technologies

Odpowiedź na sankcje USA

Nowe maszyny pojawiają się w wyjątkowo trudnym momencie dla chińskiego sektora półprzewodników. W Stanach Zjednoczonych procedowana jest ustawa MATCH Act, która przewiduje jeszcze ostrzejsze ograniczenia dotyczące sprzedaży oraz serwisowania urządzeń litograficznych dla wybranych chińskich producentów.

Projekt obejmuje między innymi SMIC, Hua Hong, CXMT, Huawei oraz YMTC. Przepisy nie ograniczają się wyłącznie do zakazu sprzedaży nowych maszyn. Dotyczą także wsparcia technicznego oraz obsługi urządzeń, które już pracują w chińskich fabrykach.

Dla Pekinu oznacza to konieczność budowania własnego zaplecza produkcyjnego praktycznie od podstaw.

Chińskie DUV nadal ustępują ASML

Nowe systemy wykorzystują litografię immersyjną DUV. Technologia pozwala produkować układy w procesie 28 nm przy pojedynczym naświetleniu. Dzięki wielokrotnemu naświetlaniu możliwe staje się również wytwarzanie bardziej zaawansowanych struktur zbliżonych do procesu 7 nm.

To rozwiązanie jest jednak znacznie bardziej skomplikowane niż wykorzystanie maszyn EUV. Każde kolejne naświetlenie wydłuża proces produkcji, zwiększa koszty oraz utrudnia utrzymanie wysokiej wydajności linii technologicznych.

Eksperci podkreślają również, że pierwsza generacja chińskich urządzeń nadal będzie ustępowała systemom produkowanym przez holenderskie ASML zarówno pod względem precyzji, jak i niezawodności.

Japonia nadal odgrywa ważną rolę

Choć nowe urządzenia określane są jako krajowe konstrukcje, wiele kluczowych komponentów nadal pochodzi spoza Chin. Według raportu znacząca część elementów wykorzystywanych w maszynach została dostarczona przez producentów z Japonii.

Lokalni dostawcy nie są jeszcze w stanie zastąpić wszystkich podzespołów, dlatego problemy z produkcją niektórych komponentów wpłynęły na tempo budowy pierwszych egzemplarzy.

Jednocześnie SMIC testuje prototypy chińskich urządzeń immersyjnych już od września 2025 roku. Pozwoliło to rozpocząć przygotowania do wdrożenia nowych systemów na liniach produkcyjnych.

ASML nadal pozostaje poza zasięgiem

Mimo rosnących ambicji Chin pozycja holenderskiego ASML pozostaje bardzo silna. Firma spodziewa się dostarczyć około 130 systemów immersyjnych DUV w 2026 roku, utrzymując poziom sprzedaży z poprzedniego roku.

Dyrektor finansowy ASML Roger Dassen zapowiedział również zwiększenie mocy produkcyjnych o około 30 procent do 2027 roku. Firma rozważa dalszą rozbudowę fabryk także w kolejnych latach.

Według analiz AI Futures Project udział ASML w rynku maszyn immersyjnych nadal będzie przekraczał 98 procent nawet wtedy, gdy chińskie rozwiązania osiągną produkcję komercyjną na większą skalę.

Pekin buduje własny ekosystem produkcji chipów

Uruchomienie seryjnej produkcji maszyn DUV pokazuje, że Chiny konsekwentnie realizują strategię ograniczania zależności od zagranicznych technologii. W ostatnich latach kraj rozwija własne procesory, pamięci, oprogramowanie projektowe oraz urządzenia wykorzystywane przy produkcji półprzewodników.

Choć droga do stworzenia pełnego odpowiednika najbardziej zaawansowanych maszyn EUV pozostaje bardzo długa, rozpoczęcie seryjnej produkcji krajowych urządzeń DUV stanowi ważny etap tej strategii.

Największym wyzwaniem pozostaje teraz praktyczne wykorzystanie nowych systemów na liniach produkcyjnych. Proces kwalifikacji urządzeń do masowej produkcji może potrwać wiele miesięcy. Dopiero wtedy okaże się, czy chińskie maszyny będą w stanie pracować z odpowiednią wydajnością i niezawodnością, aby stać się realną alternatywą dla zachodnich technologii.

Spodobało Ci się? Podziel się ze znajomymi!

Pokaż / Dodaj komentarze do:

Chiny ruszają z produkcją własnych maszyn litograficznych. Zachód będzie mieć problem
 0