Intel potwierdza 7 nm litografię w 2021 roku i tłumaczy opóźnienie 10 nm

Dyrektor generalny Intela, Bob Swan, potwierdził plany firmy, które zakładają, że „kolejna generacja procesu technologicznego” będzie gotowa w ciągu dwóch lat. Warto przypomnieć, że Niebiescy już w trakcie tegorocznej konferencji Investors’ Day zapowiadali, że ich 7 nm litografia zadebiutuje n rynku w 2021 roku i wygląda na to, że zamierzają dotrzymać tej obietnicy. Technologia ta pojawić ma się wraz z procesem 10nm++, czyli usprawnioną wersją litografii Intela, która w końcu trafi na rynek w tym roku. Co ciekawe, zdaniem Swana ta pogoń za „coraz bardziej agresywnymi celami” względem 10 nm litografii przyczyniła się do tak dużego jej opóźnienia. Szef Intela tłumaczy, że próbowali jednocześnie wprowadzić wiele zmian i usprawnień oraz przejść na niższy proces. Co więcej, Intel starał się zmniejszyć proces w większym stopniu niż oczekiwać można tego od tradycyjnego skalowania.

Bob Swan potwierdził plany firmy, które zakładają, że kolejna generacja procesu technologicznego, czyli 7 nm, będzie gotowa w ciągu dwóch lat.

Intel nazywa to Hyper Scalingiem i przed inżynierami firmy stało trudne zadanie, ponieważ poproszeni zostali o 2,7x poprawę w zakresie zagęszczenia tranzystorów względem 14 nm litografii. Dlatego też 10 nm proces technologiczny Niebieskich miał zadebiutować w 2015 roku, a dopiero w tym roku ujrzy światło dzienno w mobilnych układach. „Obieraliśmy coraz agresywniejsze cele, dlatego też zajęło nam to więcej czasu” - tłumaczy Swan. Pierwotny plan dla 10 nm zakładał uzyskanie 100 mln tranzystorów na mm², co przy zachowaniu pierwotnych terminów pozwoliłoby na 3,5 roku przewagi względem konkurencji. Tym bardziej, że 10 nm od Intela jest w bardziej zaawansowane technologicznie od 7 nm TSMC czy Samsunga. Zdaje się jednak, że Niebiescy zaprzepaścili tę szansę, choć oczywiście wciąż będą podkreślać wyższość swojej technologii nad tą wykorzystywaną przez AMD w CPU Ryzen 3000, ale najpierw muszą dostarczyć stacjonarne procesory bazujące na nowej litografii.

Sytuacja może jednak ulec zmianie w 2021 roku, o ile Intel dotrzyma terminów. Jego 7 nm proces powinien bowiem walczyć łeb w łeb z 5 nm od TSMC i Samsunga. Daniel Benatar, szef fabryki Intel Fab 28, stwierdził, że tego typu konkurencja jest czymś pozytywnym, ponieważ nakręca całą branżę. Pozwala to uporać się z trudnymi problemami natury fizycznej, kiedy to np. potrzeba wydrukować linię w 10 nm z wykorzystaniem 193nm długości fali, co jest nie lada wyzwaniem. Mamy tylko nadzieję, że Intel rzeczywiście nabierze rozpędu w zakresie swojego procesu technologicznego i po problemach z 10 nm litografią, kolejne przełomowe technologie pojawiać będą się na rynku zgodnie z planem. Tym bardziej, że wraz z 7 nm procesem firma powrócić może do założeń prawa Moore’a, czyli możemy oczekiwać podwojenia liczby tranzystorów względem 10 nm.