Intel zaprzecza plotkom o opóźnieniu 3 nm litografii

Na początku tego miesiąca pojawiły się plotki o opóźnieniach 3 nm litografii Intela. Dyrektor generalny Pat Gelsinger zdementował te pogłoski podczas Intel Capital Allocation Update, zapewniając uczestników, że prace nad produktami opartymi zarówno na ich 3 nm procesie, jak i TSMC, idą zgodnie z planem i harmonogramem. Gelsinger porównał te plotki do tych, które krążyły wokół procesu Intel 4, które również okazały się fałszywe.

Dyrektor generalny Intela odniósł się do plotek i obaw związanych z pracami firmy nad 3 nm litografią. Gelsinger postanowił rozwiać wszelkie wątpliwości co do postępów, zapewniając, że prace nad Granite Rapids, Sierra Forest i technologiami płytek graficznych bazującymi na 3 nm procesie TSMC idą zgodnie z planem.

Dyrektor generalny Intela odniósł się do plotek i obaw związanych z pracami firmy nad 3 nm litografią.

Wysoce wydajna seria Granite Rapids i energooszczędna linia Sierra Forest są opracowywane przy użyciu wewnętrznego 3 nm procesu litograficznego Intela. Technologia ta jest udoskonaleniem litografii Intel 4, ale z poprawioną wydajnością i efektywnością, które mogą wykraczać poza klientów z segmentu centrów danych. Podzespoły oparte na 3 nm od TSMC są zaś specjalnie projektowane do użycia jako kafelek graficzny w nadchodzących procesorach Intel Meteor Lake i Arrow Lake.

Warto jednak pamiętać, że obecnie firmy zajmujące się produkcją półprzewodników dość swobodnie używają nazw swoich technologii litograficznych, co mocno utrudnia ich porównywanie. Dobrym przykładem jest 10 nm proces Intela i 7 nm litografia Samsunga - wydawać by się mogło, że 7 nm oferować będzie znaczącą przewagę nad 10 nm, ale przeglądając specyfikację tych technologii dowiadujemy się, że 10 nm i 7 nm mają w tym przypadku bardzo podobną charakterystykę. Z tego też powodu, Intel jakiś czas temu dokonał rebrandingu swoich litografii i np. jego 10 nm proces nazywa się Intel 7, co także może być mylące. 

Intel podtrzymuje, że 3 nm układy wejdą do produkcji i dystrybucji na przełomie 2023 r. i 2024 r. Ostatnie doniesienia wskazują również, że 3 nm litografia TSMC wygląda obiecująco, osiągnąć ma pełnoskalową produkcję pod koniec 2023 r. i daje uzysk nawet do 80%.