Rosja kończy prace nad archaiczną litografią 350 nm. Technologia z lat 90. w 2025 roku

Rosyjskie Centrum Nanotechnologii Zelenograd (ZNTC), we współpracy z białoruskim Planar, zakończyło prace nad pierwszą w Rosji litografią zdolną do produkcji układów scalonych w procesie technologicznym 350 nm (0,35 mikrona). Mimo że to istotny symbolicznie krok, urządzenie bazuje na rozwiązaniach sprzed kilku dekad i jego praktyczna wartość w dzisiejszym przemyśle półprzewodnikowym jest ograniczona.

Nowa maszyna, oparta na technologii solid-state (ciała stałego), obsługuje wafle krzemowe o średnicy 200 mm, a pole ekspozycji wynosi 22x22 mm. Producent nie zdradza takich szczegółów, jak długość fali światła lasera czy jego moc, jednak zaznacza, że zastosowano bardziej energooszczędne i trwałe źródło światła. Takie rozwiązanie wyróżnia projekt ZNTC od powszechnie stosowanych skanerów litograficznych liderów rynku, takich jak ASML.

Technologia 350 nm jest dziś uznawana za przestarzałą, była wykorzystywana m.in. przy produkcji procesorów Intel Pentium MMX czy AMD K6 pod koniec lat 90.

Warto przypomnieć, że do produkcji układów w technologiach 350 nm i poniżej, ASML od końca lat 90. stosował różne źródła światła: lampy rtęciowe (365 nm) dla mniej zaawansowanych procesów oraz lasery excimerowe – KrF (248 nm) i ArF (193 nm) - dla bardziej zaawansowanych węzłów technologicznych.

Może i Rosja jest 30 lat spóźniona, ale i tak się chwali

Solid-state lasery mają zastosowanie w przemyśle półprzewodników, ale raczej jako narzędzia pomocnicze, np. do inspekcji, cięcia wafli czy znakowania, a nie jako główne źródło światła w nowoczesnej litografii. Choć mogą być wykorzystywane w prostszych procesach (≥250 nm), ich potencjał do zastąpienia zaawansowanych skanerów jest ograniczony.

Technologia 350 nm jest dziś uznawana za przestarzałą, była wykorzystywana m.in. przy produkcji procesorów Intel Pentium MMX czy AMD K6 pod koniec lat 90. Nawet rosyjskie fabryki, takie jak Mikron i Angstrem, pracują obecnie na poziomach 250–90 nm. Nowa litografia ZNTC może więc znaleźć zastosowanie tylko przy mniej zaawansowanych warstwach lub w sektorze wojskowym.

ZNTC zapowiada jednak, że trwają prace nad nowszą wersją urządzenia, która ma obsługiwać proces 130 nm. Premiera przewidziana jest na 2026 rok. Projekt wpisuje się w ambitny plan rosyjskiego rządu, zakładający osiągnięcie produkcji w technologiach 28 nm do 2027 i 14 nm do 2030 roku. Na razie jednak Rosja pozostaje daleko w tyle za tym harmonogramem.