SMIC osiąga uzysk 60-70% w procesie DUV 5 nm. "To niemożliwe"

Chiński producent półprzewodników SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) deklaruje przełomowy postęp w produkcji chipów w litografii 5-nanometrowej, mimo że nie ma dostępu do najnowocześniejszej technologii EUV.

Jak podają lokalne źródła, firma wykorzystuje jedynie starsze maszyny litograficzne typu DUV, które uznawano dotąd za niewystarczające do osiągnięcia tak wysokiego poziomu miniaturyzacji tranzystorów. Według doniesień, linia produkcyjna SMIC osiąga uzysk na poziomie 60–70 procent, co miałoby być porównywalne z osiągami niektórych rozwiązań 3-nanometrowych zachodnich producentów.

Proces, który SMIC miało przygotować już w ubiegłym roku, działa bez udziału urządzeń klasy EUV, do których dostęp został ograniczony przez amerykańskie sankcje. Pomimo tych restrykcji, firma zdaje się forsować technologię DUV do granic jej możliwości. Pojawiły się nawet sugestie, że uzyskany poziom wydajności może być podobny do rezultatów procesu GAA (Gate-All-Around) w litografii 3 nm, stosowanego przez Samsunga w najnowszych układach Exynos, przeznaczonych do smartfonów Galaxy Z Flip 7.

Sceptycyzm branży

W środowisku ekspertów dominują jednak głosy niedowierzania. Pojawiają się opinie, że uzyskanie tak zaawansowanego procesu produkcyjnego bez litografii EUV jest skrajnie trudne, jeśli nie całkowicie niewykonalne. Inżynierowie i analitycy z branży przypominają, że jeszcze niedawno prace nad 5-nanometrowymi chipami bez EUV uważano za czysto teoretyczne ćwiczenie, a ich wdrożenie w realnych warunkach – za nieopłacalne. Wątpliwości budzi także opłacalność produkcji. Zastosowanie technologii DUV w litografii 5 nm wymaga większej liczby masek i bardziej złożonych etapów produkcyjnych, co przekłada się na znaczący wzrost kosztów – nawet o połowę w stosunku do wersji z EUV. Przy takiej kalkulacji końcowy produkt byłby wyjątkowo drogi, a opłacalność masowej produkcji – wątpliwa.

Wątpliwości pogłębia fakt, że Huawei, strategiczny partner SMIC i jego najważniejszy klient, wciąż wytwarza swoje najbardziej zaawansowane układy w starszym procesie 7 nm. Jeśli nowa technologia 5 nm rzeczywiście działa zgodnie z deklaracjami, pozostaje pytanie, dlaczego firma tej skali i znaczenia nie przestawiła jeszcze produkcji na nowszy standard. W oczach ekspertów taki stan rzeczy jest trudny do pogodzenia z oficjalnymi doniesieniami o skuteczności nowego procesu.

Wyścig trwa

Niezależnie od kontrowersji wokół rzekomego przełomu SMIC, rozwój sektora półprzewodników w Chinach nabiera tempa. Państwowe wsparcie dla technologii litograficznych staje się coraz bardziej zauważalne. Spółka SiCarrier, blisko powiązana z Huawei, otrzymała niedawno olbrzymi zastrzyk finansowy – z przeznaczeniem na rozwój własnych maszyn EUV. Próby technologiczne tych urządzeń mają rozpocząć się jeszcze w bieżącym kwartale. Działania te sugerują, że Chiny nie tylko próbują obejść zachodnie embargo, ale również przygotowują się do uniezależnienia od zagranicznych dostawców w jednym z kluczowych sektorów nowoczesnej gospodarki.

Przyspieszona inwestycja w sprzęt EUV może z czasem zmienić krajobraz globalnej rywalizacji technologicznej. Jeśli Chinom uda się z powodzeniem wdrożyć własną technologię EUV, przewaga technologiczna firm takich jak TSMC czy Samsung może zostać istotnie ograniczona.