Szef Nvidii ostrzega Zachód. Chiny potrzebują jeszcze tylko kilku lat

Chiny w ostatnich latach bardzo mocno przyspieszyły z własnymi półprzewodnikami, ale wciąż mają ogromny problem z jednym z najważniejszych elementów całego łańcucha produkcyjnego, czyli zaawansowaną litografią. Jensen Huang uważa jednak, że Państwo Środka może nadrobić zaległości znacznie szybciej, niż mogłoby się wydawać.

Zdaniem szef NVIDII do 2030 roku Chiny będą w stanie opracować zaawansowane systemy litograficzne konkurencyjne technologicznie z zachodnimi rozwiązaniami (czytaj technologiami holenderskiego ASML). Podczas rozmowy w podcaście All-In Huang przekonywał, że chińska branża technologiczna jest wyjątkowo skuteczna w uruchamianiu produkcji na dużą skalę i Jego zdaniem rozwój własnych maszyn litograficznych jest więc przede wszystkim kwestią czasu.

„Dotrą tam do 2030 roku” - stwierdził CEO Zielonych, dodając, że dwa czy trzy lata w kontekście rozwoju chińskiego przemysłu są stosunkowo krótkim okresem. Specjaliści podkreślają jednak, że rzeczywistość technologiczna jest bardziej skomplikowana.

Zdaniem szef NVIDII do 2030 roku Chiny będą w stanie opracować zaawansowane systemy litograficzne konkurencyjne technologicznie z zachodnimi rozwiązaniami.

Do ASML wciąż daleka droga

Największym chińskim producentem urządzeń litograficznych jest obecnie SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment), które potrafi masowo produkować skanery ArF dry dla procesów około 90 nm. Według dostępnych informacji firma opracowała również system litografii immersyjnej, potencjalnie pozwalający na produkcję układów w klasie 28 nm.

Problem w tym, że opracowanie urządzenia to dopiero początek. Maszyna musi przejść długotrwałą kwalifikację i zostać sprawdzona w rzeczywistej produkcji wielkoseryjnej. Nawet jeśli chińskie skanery 28 nm trafią do producentów jeszcze w 2026 roku, ich szerokie wykorzystanie może nastąpić dopiero w kolejnych latach. Co więcej, osiągnięcie poziomu wczesnych systemów ASML nie oznaczałoby dogonienia obecnych technologii holenderskiego producenta.

Największym wyzwaniem pozostaje EUV

Jeszcze większa przepaść dzieli Chiny od technologii EUV wykorzystującej ekstremalny ultrafiolet, czyli światło o długości fali 13,5 nm. Pojawiają się informacje o postępach w opracowaniu źródeł światła potrzebnych do tej technologii, ale brakuje dowodów na istnienie chińskiego produkcyjnego skanera EUV. Do stworzenia takiej maszyny konieczne jest opanowanie ekstremalnie precyzyjnych układów pozycjonowania, optyki, systemów pomiarowych i technologii kontroli położenia masek oraz wafli.

Huang może więc mieć rację, że Chiny ostatecznie osiągną technologiczny poziom pozwalający im uniezależnić się od zagranicznych dostawców, ale czy dogonią w tym zakresie Zachód już do 2030 roku, pozostaje mocno wątpliwe.