"Chiny są 15 lat za nami" - tak mówi Holandia. Śmiech przez łzy Unii Europejskiej i ich regulacji

Choć Huawei i SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) osiągnęli imponujące postępy w sektorze półprzewodników, dystans technologiczny dzielący je od liderów rynku, takich jak Intel, TSMC czy Samsung, pozostaje ogromny.

Jak wskazuje Christophe Fouquet, dyrektor generalny holenderskiej firmy ASML, specjalizującej się w produkcji zaawansowanych narzędzi litograficznych, chińskie przedsiębiorstwa są technologicznie 10–15 lat za swoimi zachodnimi konkurentami. Główną przyczyną tego opóźnienia jest brak dostępu do kluczowej technologii – narzędzi do litografii w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV).

Pomimo ograniczeń w dostępie do technologii EUV, chińskie firmy nie zaprzestają prac nad rozwojem własnych rozwiązań technologicznych.

Brak technologii EUV kluczowym problemem

ASML, światowy lider w produkcji urządzeń litograficznych, nigdy nie wysyłał swoich maszyn EUV do Chin. Powodem jest międzynarodowe porozumienie Wassenaar, regulujące eksport zaawansowanych technologii, a także sankcje nałożone przez rząd USA. Chociaż SMIC złożyło zamówienie na jedną maszynę EUV, sprzęt ten nigdy nie dotarł do chińskich fabryk. Zamiast tego ASML dostarczało do Chin urządzenia litograficzne DUV (deep ultraviolet), takie jak Twinscan NXT:2000i. Narzędzia te pozwalają na produkcję chipów w technologiach procesowych 5 nm i 7 nm, jednak ich możliwości nie dorównują zaawansowaniu technologii EUV. Jak podkreśla Christophe Fouquet, zakaz eksportu technologii EUV do Chin oznacza, że chiński przemysł półprzewodników pozostanie w tyle za zachodnimi konkurentami przez co najmniej dekadę. „To naprawdę ma wpływ” – zaznaczył w wywiadzie dla NRC.

SMIC i Huawei: Walka o przetrwanie

Mimo sankcji i ograniczeń chińskie firmy półprzewodnikowe nie pozostają bierne. SMIC od lat produkuje chipy w technologii 7 nm pierwszej i drugiej generacji dla Huawei, co pozwoliło tym firmom utrzymać się na rynku pomimo restrykcji nałożonych przez Stany Zjednoczone. Jednocześnie Huawei i jego partnerzy rozpoczęli prace nad własnymi narzędziami litograficznymi EUV, starając się stworzyć cały ekosystem technologiczny umożliwiający produkcję nowoczesnych układów scalonych.

Prace nad tego typu technologiami są jednak wyjątkowo czasochłonne i skomplikowane. ASML potrzebowało ponad 20 lat, aby opracować komercyjne maszyny EUV, a także stworzyć kompletny ekosystem pozwalający na ich efektywne wykorzystanie. Choć chińskie firmy mogą korzystać z wiedzy technologicznej zdobytej przez ASML na przestrzeni ostatnich dekad, wciąż czeka je trudne zadanie. Nawet jeśli uda im się opracować własne narzędzia EUV w ciągu najbliższych 10–15 lat, zachodni producenci chipów będą już korzystać z bardziej zaawansowanych rozwiązań, takich jak litografia EUV o wysokiej wartości NA (numer apertury).

Obawy o kopiowanie technologii DUV

Nie tylko długoterminowe plany Chińczyków budzą obawy wśród zachodnich firm technologicznych. Eksperci podkreślają, że w krótszej perspektywie największe ryzyko związane jest z możliwością skopiowania przez chińskie firmy powszechnie dostępnych narzędzi litograficznych DUV, takich jak Twinscan NXT:2000i. Urządzenia te, choć mniej zaawansowane niż maszyny EUV, wciąż odgrywają kluczową rolę w produkcji półprzewodników i stanowią ważny element oferty ASML.

Rząd USA wywiera presję na holenderski rząd oraz na ASML, aby ograniczyły dostawy, konserwację i serwis zaawansowanych systemów DUV w Chinach. Jak dotąd jednak holenderskie władze nie przychyliły się do tych żądań. ASML, świadome ryzyka wycieku technologii, stara się utrzymać kontrolę nad swoimi maszynami w Chinach, aby zapobiec sytuacjom, w których chińskie firmy samodzielnie przejmowałyby ich serwisowanie.