Chiny prawdopodobnie ukradły plany maszyn litograficznych ASML

ASML donosi o kolejnej kradzieży tajemnic związanych z maszynami litograficznymi. To już drugi taki przypadek w ciągu roku.

Pracownik, który został oskarżony o kradzież tajemnic handlowych zaawansowanego sprzętu do produkcji chipów od swojego byłego pracodawcy ASML, jest teraz podejrzany o szpiegostwo na rzecz chińskiego rządu - informuje Bloomberg, powołując się na źródła zaznajomione z wewnętrznym dochodzeniem ASML. Pracownik ten, który najprawdopodobnie pochodzi z Chin, miał "potencjalne" powiązania z siecią szpiegowską wspieraną przez Pekin i mógł kraść dane w jej imieniu. To już druga kradzież planów ASML w ciągu roku, która ma miejsce w czasie, gdy Stany Zjednoczone naciskają na swoich sojuszników, aby uniemożliwili Chinom rozwój ich krajowej produkcji chipów. W ramach tej kampanii wprowadzono zakaz eksportu maszyn litograficznych, takich jak te budowane przez ASML, TSMC i Samsung Electronics, które są wykorzystywane przez fabryki do produkcji zaawansowanych półprzewodników, stosowanych w smartfonach, laptopach i serwerach.

Pracownik, którego wcześniej oskarżono o kradzież planów sprzętu ASML do produkcji półprzewodników, podejrzewany jest o szpiegostwo na rzecz chińskiego rządu. Prawdopodobnie chodzi o maszyny do produkcji w EUV.

Zeszłego roku ASML zgodził się nie eksportować do Chin urządzeń do litografii w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV), które są niezbędne do produkcji chipów w procesach klasy 10 nm i nowszych. Teraz holenderski rząd planuje odciąć Chiny od starszych maszyn ASML do litografii w głębokim ultrafiolecie (DUV). ASML jest jedynym dostawcą maszyn EUV, co sprawia, że ​​własność intelektualna niezbędna do budowy sprzętu EUV jest bardzo cennym towarem dla Chin, które pozostają w tyle za konkurencyjnymi tajwańskimi i koreańskimi fabrykami.

Władze USA prowadzą również śledztwo w sprawie naruszenia bezpieczeństwa, ponieważ skradzione dane są objęte amerykańską kontrolą eksportową. Oznaczałoby to, że skradziona własność intelektualna może być powiązana z produkcją sprzętu EUV. To z pewnością pomogłoby w rozwoju chińskich fabryk, które w dużej mierze utknęły na etapie 14 nm. Niektóre raporty wskazują, że SMIC zyskał możliwość produkcji w procesie 7 nm, jednak technologia została skopiowania od TSMC, czego dowodzi inżynieria wsteczna chińskiego układu Minevra. W przeszłości już dochodziło do przypadków kradzieży własności intelektualnej ASML przez chińskie firmy, w tym przez Dongfang Jingyuan Electron w zeszłym roku.