Ceny chipów polecą o połowę. ASML może zmienić całą branżę

Holenderski gigant litograficzny ogłosił znaczący przełom w technologii EUV. Moc źródła światła w skanerach wzrosła z około 600 W do 1000 W. Według doniesień ma to pozwolić zwiększyć uzyski z produkcji układów nawet o 50% do końca dekady.

Większa moc oznacza wyższą przepustowość. ASML szacuje, że do 2030 roku klienci będą mogli przetwarzać nawet 330 wafli na godzinę, wobec około 220 obecnie. To bezpośrednio przełoży się na niższy koszt pojedynczego chipu.

Firma wskazuje, że w przyszłości możliwe jest dojście do 1500 W, a nawet 2000 W.

Jak działa EUV?

Litografia EUV wykorzystuje światło o długości fali 13,5 nm. Powstaje ono poprzez naświetlanie mikroskopijnych kropli stopionej cyny laserem CO₂, co generuje plazmę emitującą promieniowanie EUV. Następnie światło jest zbierane i kierowane przez precyzyjną optykę dostarczaną przez Carl Zeiss AG.

Aby osiągnąć 1000 W, ASML podwoiło częstotliwość generowania kropli (do około 100 tys. na sekundę) oraz przeszło z pojedynczego impulsu lasera na technikę dwupulsową, pozwalającą lepiej kształtować energię. Firma wskazuje, że w przyszłości możliwe jest dojście do 1500 W, a nawet 2000 W.

Wyścig technologiczny trwa

ASML pozostaje jedynym komercyjnym dostawcą skanerów EUV. Z rozwiązań firmy korzystają m.in. TSMC, SK Hynix oraz Intel. Maszyny te są fundamentem produkcji w zaawansowanych procesach technologicznych i podlegają ograniczeniom eksportowym (mówiąc wprost nie można wysyłać ich do Chin).

Ruch ASML ma utrzymać przewagę nad rosnącą konkurencją. W USA rozwijane są alternatywne projekty, a Chiny intensyfikują własne prace nad litografią. Huawei inwestuje w krajowy łańcuch dostaw AI i rozwija produkcję chipów 7 nm we własnych zakładach. Tym samym holenderska firma daje sygnał, że lider rynku nie zamierza oddać pola w globalnym wyścigu o najbardziej zaawansowane półprzewodniki.