Rosjanie wymyślili alternatywę dla EUV od ASML. Zaczną od... 40 nm


Rosjanie wymyślili alternatywę dla EUV od ASML. Zaczną od... 40 nm

Instytut Fizyki Mikrostruktur Rosyjskiej Akademii Nauk zaprezentował szczegółowy harmonogram prac nad rodzimymi narzędziami litograficznymi w ekstremalnym ultrafiolecie. Projekt obejmuje okres od 2026 do 2037 roku i zakłada przejście od technologii 40 nm do procesów poniżej 10 nm. Choć plan ma charakter długoterminowy, jego autorzy podkreślają, że nie będzie przeznaczony do komercyjnego wykorzystania, lecz do budowania krajowych zdolności produkcyjnych.

Zamiast powielania architektury narzędzi holenderskiej firmy ASML, rosyjski projekt stawia na odmienny zestaw technologii. Kluczowym elementem są hybrydowe lasery półprzewodnikowe, źródła światła oparte na plazmie ksenonowej oraz zwierciadła Ru/Be odbijające fale o długości 11,2 nm. Zastosowanie ksenonu zamiast cyny ma zredukować problemy związane z zanieczyszczaniem masek i kosztowną konserwacją. Konstrukcja, w porównaniu z narzędziami DUV, nie przewiduje immersji pod wysokim ciśnieniem ani wielowarstwowego wzorowania.

Etapy rozwoju

Pierwszy system, zaplanowany na lata 2026–2028, ma umożliwić litografię w technologii 40 nm z wykorzystaniem układu dwuzwierciadlanego. Druga faza, przewidziana na lata 2029–2032, obejmie skaner 28 nm z możliwością zejścia do 14 nm dzięki czterozwierciadlanej optyce. Ostatni etap, zaplanowany do 2036 roku, przewiduje konfigurację sześciu luster, pozwalającą na produkcję poniżej 10 nm z precyzją nakładania warstw do 2 nm.

Wyzwania techniczne i ryzyko

Choć harmonogram wskazuje na systematyczne zwiększanie rozdzielczości i wydajności, budzi wątpliwości pod względem wykonalności. Długość fali 11,2 nm nie jest standardem w litografii EUV i wymaga opracowania zupełnie nowych luster, źródeł światła i elementów optycznych. Twórcy podkreślają potencjalne korzyści, lecz pomijają kwestie związane z koniecznością stworzenia od podstaw narzędzi do polerowania i powlekania komponentów.

Wizja samowystarczalności

Rosyjska inicjatywa ma zbudować alternatywny ekosystem litograficzny, dostosowany do mniejszych fabryk i ograniczonych budżetów. W założeniu platforma mogłaby zapewnić ekonomiczną produkcję układów scalonych zarówno dla rynku wewnętrznego, jak i dla partnerów zagranicznych pozbawionych dostępu do technologii ASML. Jeśli projekt zakończy się sukcesem, Rosja mogłaby wypracować własny model rozwoju półprzewodników, odchodzący od dominujących dziś standardów.

Spodobało Ci się? Podziel się ze znajomymi!

Pokaż / Dodaj komentarze do:

Rosjanie wymyślili alternatywę dla EUV od ASML. Zaczną od... 40 nm
 0
Kolejny proponowany artykuł z kategorii
Kolejny proponowany artykuł z kategorii
Kolejny proponowany artykuł z kategorii
Kolejny proponowany artykuł z kategorii